電子探針（EPMA）

JXA-8230 日本電子生產(chǎn)

技術(shù)參數(shù)

二次電子像分辨率：5nm                               背散射電子像分辨率：20nm（拓?fù)湎瘛⒊煞窒瘢煞址直孀阋郧逦直姒?β黃銅
電子槍?zhuān)篖aB6發(fā)射槍?zhuān)A(yù)對(duì)中燈絲                 加速電壓：0～30kV;                  
束流范圍：10^-5～10^-12 A                        圖像放大倍數(shù)：×40～×300,000，連續(xù)可調(diào)                  
分析元素：5B~92U                                       分析精度：高于1%(主元素,含量＞5%)和5%(次要元素,含量～1%)                  
分析速度：自動(dòng)全元素定性分析時(shí)間≤60秒，可以自動(dòng)識(shí)別0.1wt%以上的元素    

                
應(yīng)用范圍

用于成分分析、形貌觀察，以成分分析為主。主要用WDS進(jìn)行元素成分分析、檢出角大、附有光學(xué)顯微鏡，可以準(zhǔn)確定位工作距離(物鏡極靴下表面與試樣表面之間的距離）、電流大、穩(wěn)定，所以定量結(jié)果準(zhǔn)確度高,檢測(cè)極限低。

點(diǎn)分析

將電子束（探針）固定在試樣感興趣的點(diǎn)上，進(jìn)行定性或定量分析。該方法準(zhǔn)確度高（適用于低含量元素定量 ），用于顯微結(jié)構(gòu)的成分分析，例如，對(duì)材料晶界、夾雜、析出相、沉淀物、奇異相及非化學(xué)計(jì)量材料的組成等分析。

線分析
電子束沿一條分析線進(jìn)行掃描(或試樣臺(tái)移動(dòng)掃描)時(shí)，能獲得元素含量變化的線分布曲線。如果和試樣形貌像（二次電子像或背散射電子像）對(duì)照分析，能直觀地獲得元素在不同相或區(qū)域內(nèi)的分布變化曲線。   
面分析
將電子束在試樣表面掃描時(shí)，元素在試樣表面的分布能在屏幕上以亮度（或彩色）分布顯示出來(lái)（定性分析)，亮度越亮元素含量越高。研究材料中雜質(zhì)、相的分布和元素偏析常用此方法。面分布常常與形貌像對(duì)照分析。